靶材是什麼意思

靶材（Target Material）是指在高科技製造過程中，用於濺射鍍膜、電子束蒸發、離子束輔助沉積等物理氣相沉積（PVD）技術中作為源材料的一種材料。靶材通常是由高純度的金屬、合金、化合物等材料製成，其形狀多為圓盤狀或長條狀。

在濺射鍍膜過程中，靶材被放置在一個真空腔體中，通過高電壓或電流的作用，靶材表面會被濺射出原子或分子，這些濺射出來的粒子會沉積在基片上，形成一層均勻的薄膜。這種薄膜可以用於製作積體電路、半導體器件、光學器件、磁性存儲介質、太陽能電池、平板顯示器等電子產品中的關鍵材料。

靶材的材質和純度對於濺射鍍膜的質量和性能有著重要的影響，因此靶材材料的選擇和製備技術是濺射鍍膜技術中的關鍵環節。隨著電子技術的不斷發展，靶材材料也在不斷創新和進步，以滿足不同套用領域對薄膜材料性能的要求。