影象掩模是什麼意思

"影象掩模"（Memory Mask）是半導體製造中的一種術語，用於描述在製造積體電路（IC）或微晶片的過程中使用的一種光掩模。光掩模是一種具有圖形設計的透明薄片，用於在光刻過程中將設計圖案轉移到光刻膠層上。

在半導體製造中，晶片的設計被分解為一系列的層，每一層都有其特定的功能和圖案。記憶掩模對應於晶片布局中的一種特定層，通常用於存儲單元（如SRAM、DRAM或Flash Memory）的製造。這些掩模上的圖案會被曝光在矽晶圓上，通過一系列的化學和物理過程，最終形成晶片上的實際電路。

記憶掩模的製作是一個複雜的過程，它涉及到高精度的光刻技術和納米級的圖案解析度。掩模上的錯誤或缺陷可能會導致晶片功能故障，因此在半導體製造中，掩模的質量控制和精確性是非常重要的。