光敏印章意思

光敏印章是一種現代的印章技術，它使用光敏材料來製作印章。這種材料在受到特定波長光的照射後會發生化學反應，從而形成印章的圖案。

光敏印章的製作過程通常包括以下幾個步驟：

1. 設計印章圖案：首先需要設計出所需的印章圖案，這可以通過計算機軟體完成。

2. 製作印章模板：將設計好的圖案通過光刻技術轉移到一塊透明的模板（如玻璃或塑膠片）上，形成模板上的圖案。

3. 塗布光敏材料：在印章的基底材料上塗布一層光敏材料，這種材料在受到特定波長光的照射後會發生固化。

4. 曝光：將塗布了光敏材料的一面朝下，與模板緊密接觸，然後用紫外線等特定波長的光源照射，使光敏材料在印章圖案的位置上固化。

5. 顯影：將印章從模板中取出，用溶劑清洗未固化的光敏材料，從而形成印章的圖案。

6. 固化：將印章放在紫外線下再次照射，確保印章圖案完全固化。

7. 檢驗：檢查印章的圖案是否清晰、完整，如果有缺陷可以進行修補。

光敏印章的優點是製作方便、成本較低、圖案精細度高，而且可以多次使用。它們廣泛套用於辦公自動化、印刷、包裝、廣告等行業。